- Китайский научно-технический коллектив собрал рабочий прототип EUV-литографа, используемого для производства передовых чипов.
- Прототип создан с помощью бывших инженеров голландской ASML, с применением комплектующих, приобретённых на вторичном рынке, включая платформу Alibaba Auction.
- Работа над машиной контролируется на самом высоком уровне, а производство чипов планируется к 2028–2030 годам, что опережает западные предположения.
В лаборатории в китайском Шэньчжэне реализован проект, который долгое время считался сложным для осуществления — сборка прототипа EUV-литографа, технологии, критически важной для создания современных микропроцессоров. Reuters сообщает, что китайским специалистам удалось сконструировать прототип на основе комплектующих, приобретённых у бывших производителей и даже на торговой площадке Alibaba Auction. Это значит, что несмотря на многолетние усилия США по предотвращению передачи технологий, КНР сумела обойти ограничения.
В создании устройства принимала участие команда бывших инженеров голландской ASML — единственного мирового производителя EUV-литографов. Они, работая под псевдонимами, исследовали и повторно создавали ключевые компоненты путем реверс-инжиниринга. Готовое устройство, появившееся в начале 2025 года, занимает почти целый производственный цех. Литограф уже способен генерировать экстремальный ультрафиолет, необходимый для производства передовых чипов, однако пока он не выпустил ни одного готового изделия.
Правительство Китая ставит перед группой амбициозную цель — производство рабочих чипов к 2028 году. Аналитики Reuters более скептичны и считают, что реалистичные сроки — около 2030 года. Тем не менее, даже эти даты свидетельствуют о серьёзном прорыве на фоне западных экспертов, которые предполагали необходимость минимум десяти лет на достижение подобного результата.
Проект курирует Дин Сюэсян — влиятельный деятель, близкий к председателю Си Цзиньпину и отвечающий за центральное научно-техническое ведомство Компартии Китая. Одним из ключевых партнёров по проекту выступает корпорация Huawei, задействованная на всех этапах от проектирования микросхем до их интеграции в конечные продукты. В процессе соборки прототипа задействованы около ста молодых специалистов, работающих под строгим контролем и получающих вознаграждения за успешные результаты, что сравнимо с масштабом и строгостью американского Манхэттенского проекта.
Следует отметить, что ASML — единственная компания мира, освоившая технологию EUV-литографии. Их оборудование стоит порядка 250 миллионов долларов и используется крупнейшими полупроводниковыми корпорациями как Nvidia, AMD, TSMC, Intel и Samsung. Для создания первого рабочего прототипа ASML потребовались годы и значительные инвестиции, а первая коммерческая разработка появилась лишь спустя почти двадцать лет после начала исследований.
В апреле 2025 года глава ASML Кристоф Фуке отмечал, что Китаю потребуется «много-много лет» для разработки подобной технологии. Однако появление лабораторного литографа в Шэньчжэне указывает на то, что этот прогноз возможно был слишком оптимистичен в отношении западных компаний, и Китай намерен быстро закрыть технологический разрыв в сфере производства современных чипов.
